據(jù)韓媒 ZDNet Korea 報(bào)道，SK 海力士 EUV 材料技術(shù)人員當(dāng)?shù)貢r(shí)間本月 12 日出席技術(shù)會(huì)議時(shí)向媒體表示，該企業(yè)計(jì)劃于 2026 年首次導(dǎo)入 ASML 的 High NA EUV 光刻機(jī)。
SK 海力士的一位工程師表示該公司新近成立了一個(gè) High NA EUV 研發(fā)團(tuán)隊(duì)，正致力于將 High NA EUV 光刻技術(shù)應(yīng)用到最先進(jìn) DRAM 內(nèi)存的生產(chǎn)上。
▲ ASML EXE:5000 High NA EUV 光刻機(jī)
綜合已有報(bào)道，在幾大先進(jìn)邏輯制程與存儲(chǔ)半導(dǎo)體企業(yè)中，英特爾率先拿下了全球第一臺(tái)商用 High NA EUV 光刻機(jī)，其第二臺(tái) High NA 機(jī)臺(tái)也已在運(yùn)至俄勒岡州研發(fā)晶圓廠的途中。
而臺(tái)積電和三星電子兩家企業(yè)用于研發(fā)目的的首臺(tái) High NA EUV 光刻機(jī)也分別有望于 2024 年內(nèi)、2024 年四季度至 2025 年一季度交付。 
