據(jù)韓國產(chǎn)業(yè)通商資源部官網(wǎng)新聞稿，半導體光刻膠巨頭日本 JSR 今日在韓國忠清北道清州舉行 MOR（IT之家注：金屬氧化物）光刻膠生產(chǎn)基地的奠基儀式。
該生產(chǎn)基地由 JSR 在韓子公司 JSR Micro Korea 建設，將生產(chǎn)可用于 EUV 光刻的 MOR 光刻膠，目標 2026 年建成投產(chǎn)。這也是韓國境內(nèi)的首個同類光刻膠工廠。
適用于 EUV 制程的 MOR 光刻膠能夠替代低端化學放大光刻膠，在確保超精細工藝的競爭力方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用。JSR Micro Korea 新工廠有望直接向韓國本土兩大半導體制造巨頭三星電子、SK 海力士供貨，保證光刻膠供應穩(wěn)定可靠。
JSR 在今年 8 月 30 日的相關(guān)新聞稿中還提到，該企業(yè)計劃今年秋天起在日本關(guān)東地區(qū)建設一個新的 MOR 研發(fā)基地，作為日本三重縣四日市現(xiàn)有精密電子開發(fā)中心的補充，以強化同全球客戶與伙伴的交流合作。 
